RT - Journal Article T1 - Copper-stress tolerance induced in Phlomis tuberosa depends on nitric oxide accumulation JF - jispp YR - 2020 JO - jispp VO - 9 IS - 38 UR - http://jispp.iut.ac.ir/article-1-1304-fa.html SP - 61 EP - 76 K1 - toxicity thresholds K1 - effective concentration K1 - photosystem II K1 - chlorophyll a fluorescence K1 - Phlomis tuberosa K1 - copper K1 - nitric oxide AB - در این پژوهش، تأثیر غلظت‌های مختلف مس بر فعالیت دستگاه فتوسنتزی و ظرفیت آنتی اکسیدانت گیاه فلومیس توبروزا (Phlomis tuberosa) مورد بررسی قرار گرفت. گیاهان در محیط پرلیت به مدت 5 هفته رشد کردند و سپس با غلظت‌های 0، 100، 200، 300 و 400 میکرومولار مس به مدت 21 روز تیمار شدند. نتایج نشان داد که گیاه فلومیس توبروزا نسبت به 100 و 200 میکرومولار مس مقاوم است. این مقاومت به واسطه افزایش ظرفیت سیستم آنتی اکسیدانت گیاه حاصل شد. با این حال غلظت‌های زیاد مس (300 و400 میکرومولار) تنش زا بودند و باعث افزایش انباشت پراکسید هیدروژن (H2O2) و مالون دی‌آلدئید (MDA) و کاهش معنی‌دار فعالیت کمپلکس آزاد کننده اکسیژن (Fv/Fo) و شاخص کارآیی فتوسیستم II (PIabs) گردیدند. براساس شاخص غلظت موثر (EC50 یعنی غلظتی از فلز که منجر به کاهش 50 درصدی تولید ماده خشک می‌شود)، آستانه سمیت مس برای گیاه فلومیس توبروزا، غلظت 300 میکرومولار تعیین گردید. جالب آنکه گیاهانی که در معرض سطوح متوسط مس به مدت 21 روز قرار گرفته بودند، بالاترین مقادیر انباشت نیتریک اکساید (NO) را نشان دادند و این انباشت با بالاترین فعالیت آنزیم‌های آنتی اکسیداتیو و همچنین تداوم فتوسنتز همراه بود. LA eng UL http://jispp.iut.ac.ir/article-1-1304-fa.html M3 ER -