RT - Journal Article T1 - Effects of drought stress and its interaction with silicon on stimulates the antioxidant system and lipid peroxidation in fennel (Foeniculum vulgar) JF - jispp YR - 2016 JO - jispp VO - 5 IS - 16 UR - http://jispp.iut.ac.ir/article-1-349-fa.html SP - 71 EP - 84 K1 - Keywords: Antioxidant enzymes K1 - Lipid peroxidation K1 - Photosynthetic pigments K1 - Proline K1 - Silicon AB - تنش خشکی باعث تحریک ساخته شدن گونه‌های اکسیژن فعال در کلروپلاست‌های گیاهی می‌شود. گونه‌های اکسیژن فعال نیز سبب پراکسیداسیون لیپیدهای غشایی و تخریب غشای سلولی می‌شوند. در این پژوهش، اثر غلظت‌های متفاوت سیلیکون بر تنش اکسیداتیو ناشی از خشکی در گیاه رازیانه بررسی شد. آزمایش به صورت اسپلیت پلات در قالب طرح پایه بلوک‌های کامل تصادفی با سه تکرار انجام گرفت. فاکتور اصلی تنش خشکی بود که بر اساس آبیاری در 100 درصد، 70 درصد و 40 درصد ظرفیت زراعی اعمال گردید و فاکتور فرعی نیز محلول پاشی سیلیکون در پنج سطح (صفر، 5/2، 5، 5/7 و 10 میلی مولار) بود. این آزمایش در مزرعه دانشگاه زابل در سال 1393 انجام گرفت. نتایج نشان داد تنش خشکی باعث کاهش معنی دار کلروفیل a و کلروفیل b، کارتنوئیدها، محتوای نسبی آب برگ و فعالیت آنزیم کاتالاز شد. میزان مالون دی‌آلدئید و نشت الکترولیت‌ها در شرایط خشکی به میزان دو برابر نسبت به شاهد افزایش نشان دادند. محلول پاشی سیلیکون در زمان آبیاری کامل اختلاف معنی‌داری با تیمار شاهد از نظر صفات مورد بررسی نشان نداد، ولی در شرایط تنش شدید خشکی تیمار 5/7 میلی‌مولار سیلیکون میزان فعالیت آنزیم پراکسیداز، آسکوربات پراکسیداز، پرولین و قند‌های محلول را به ترتیب 18، 25، 14 و 28 درصد افزایش و مالون دی‌آلدئید و نشت الکترولیت‌ها را به میزان 30 و 28 درصد نسبت به تیمار شاهد کاهش داد. با توجه به نتایج به دست آمده محلول پاشی غلظت‌های 5 و 5/7 میلی‌مولار سیلیکون توانست با تقویت سیستم آنتی اکسیدان گیاه و افزایش میزان اسمولیت‌ها، توانایی گیاه رازیانه را در پاسخ به تنش خشکی افزایش دهد و اثر محافظتی در برابر پراکسیداسیون لیپیدها (که ناشی از تنش خشکی می‌باشد) داشته باشد. LA eng UL http://jispp.iut.ac.ir/article-1-349-fa.html M3 ER -